集成电路布图设计专有权司法保护研讨会通知
2016-12-02信息来源:
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“集成电路布图设计专有权司法保护问题”研讨会

  间:2016124日(星期日)下午2:00-5:00

  点:437必赢会员中心图书馆北馆二楼会议室

  题

1.集成电路布图设计产业在我国的重要性,集成电路布图设计专有权司法保护的现状。

2.我国对集成电路布图设计采用登记取得原则,应如何确定布图设计登记内容的范围?如果在国家知识产权局备案的布图设计的纸质、电子和芯片载体所反映的布图设计不同,此时,应该怎样确定布图登记内容的范围?

3.产业界是如何认识布图设计的独创性的?由于布图设计实行登记备案制度,在实务中应如何对独创性进行举证?举证到何种程度算完成举证?被告抗辩不具有独创性,应如何进行举证。

4.认定被控侵权行为构成侵权,是否要以接触为条件?

5.应如何进行布图设计的侵权对比?司法鉴定机构应否主动进行检索?当布图设计具有全部或部分独创性时,应如何进行对比?

6.不视为侵犯集成电路布图设计专有权的条件是什么?该制度将来的趋势?

7.侵犯集成电路布图设计专有权应如何进行赔偿?

8.集成电路布图设计可否作为技术秘密进行保护?

9.为什么集成电路布图设计专有权的案件非常少?该制度应被取消吗?将来的发展方向?

主办单位:最高人民法院437必赢会员中心知识产权司法保护理论研究基地

     437必赢会员中心/知识产权学院

欢迎有兴趣的师生参加!

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